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Ficha Técnica Projeto

Micro e nanofabricação de junção túnel para aplicação em dispositivos spintrônicos

Física

Clodoaldo Irineu Levartoski De Araujo

Descrição

O objetivo geral desta proposta é desenvolver processos de microeletrônica e nanolitografia por feixe de elétrons para fabricação de junções túnel coerentes utilizando as técnicas de epitaxia por feixe molecular (MBE) e sputtering. A potencial utilização destes eletrodos como injetores eficientes de spins em dispositivos lógicos desenvolvidos em silício comercial com baixa dopagem e em grafeno obtido por sputtering de material metálico sobre carbeto de silício após recozimento rápido, será caracterizada por medidas locais e não locais do comprimento de difusão de spin (Lsd) em dispositivos laterais.

Período

02/03/2013 à 02/03/2015